1. 真空熱處理系列

    2. 真空釬焊/擴散焊系列

    3. 真空燒結系列

    4. 真空高溫高壓系列

    5. HIP熱等靜壓系列

    6. 不銹鋼管專用熱處理系列

    7. 鈦合金高溫合金專用配套熱處理系列

    8. 真空氫化系列

    9. 碳材料特種生產線設備

    10. 連續生產線

    11. 半導體晶體生長系列

    12. VHSF系列真空高溫燒結爐(碳化硅、氮化硅)

      用途:

             主要用于SiC陶瓷制品的反應燒結、無壓燒結、重結晶燒結、熱等靜壓燒結,也可用于氮化硅等其他陶瓷制品的燒結。

      優勢與特點:

             最高 溫度可達到3000℃。

             新型加熱室結構,多溫區獨立控溫,溫度均勻性好,損耗功率小,更節能。

             進口紅外測溫儀,測溫準確,誤差小。

      可選項:

             爐體形式:立式,臥式

             加熱方式:電阻加熱;感應加熱

             冷卻方式:自然冷卻;氣體循環冷卻

             真空泵組:進口;國內優質品牌

             目前該設備已形成系列化產品,不在系列范圍內的可根據客戶要求定制。


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